高功率MPCVD法制备高质量金刚石膜的研究

【类型】学位论文

【作者】刘聪 

【关键词】 微波等离子体 化学气相沉积 预处理 辅助气体 耦合效应 可控性

【学位授予单位】武汉工程大学

【学位年度】2015

【学位名称】硕士

【分类号】TQ163;|TB383.2

【导师姓名】汪建华

【摘要】CVD金刚石膜因其优异的物理化学性能,使得其在众多领域具有广泛应用。特别是在军事领域,高质量光学级金刚石膜一直是各个科研团队研究的重点。而在诸多人造金刚石膜方法中,微波等离子体化学气相沉积法被认为是制备高质量CVD金刚石膜的理想方法,然而目前主要制约高质量金刚石膜因素有设备的研制及工艺参数调试。本论文在实验室前期研究的基础上,应用韩国Woosinent公司R2.0-MPCVD沉积系统以及实验室自制的20kW-MPCVD装置,系统研究了各项工艺参数对高质量金刚石膜的制备影响。主要研究如下:1、采用微波等离子

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