掩模对Ag超透镜成像质量和像距的影响
日期:2015.01.01 点击数:3
【类型】学位论文
【作者】王诗琴
【关键词】 光栅掩模 成像质量 像距 超分辨成像光刻 金属平板超透镜
【学位授予单位】四川师范大学
【学位年度】2015
【学位名称】硕士
【分类号】O436.1
【导师姓名】李玲,谢征微
【摘要】由于衍射极限的存在,限制了光学成像和光刻系统的分辨率。随着表面等离子激元理论研究的深入和工艺技术的进步,利用表面等离子体放大倏逝波参与成像,突破衍射极限,实现亚波长分辨率成为可能。本学位论文基于单层银板所构成的超透镜成像系统,利用有限元法计算模拟了金属平板超透镜近场成像过程,进一步研究Cr光栅掩模的厚度、线宽以及轮廓变化对超分辨成像光刻的质量和像距的影响。同时,采用光学传递函数,模拟了横磁波模式下Si O2-Media-Air结构的透光率,结合有限元法进一步研究掩模材料对超分辨成像光刻的质量和像距的影响。
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